技术编号:3249298
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。用于在等离子处理室内防止等离子不受限制故障发生的方法和装置背景技术在基才反,例如半导体基板或i者如使用于平板显示器制造的玻璃平板的处理中,经常运用等离子。作为在等离子室中基板处 理的一部分,例如,在一系列步骤中处理基板,其中材料;故有选择 地去除(蚀刻)和沉积,以在其上形成电气部件。在基于Exelan 等离子处理系统平台(可从Fremont, CA 的Lam Research公司获得)的一个示例性室实施中,采用RF能量 在期望的等离子保持区域(即等离子处理...
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