技术编号:3254462
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种成膜装置,尤其涉及一种构成成膜装置的装入和取出室的结构。本申请基于2010年11月15日申请的特愿2010-255191要求优选权,并在此援引其内容。背景技术作为在半导体基板等形成功能膜的成膜装置,可以例举PVD (Physical VaporDeposition)装置和 CVD (Chemical Vapor Deposition)装置等。以这种PVD装置和CVD装置等为代表的成膜装置至少包括成膜室,对基板进行成膜;和装入和取出室(装卸腔室...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。