技术编号：3256233
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种湿蚀刻设备。背景技术湿蚀刻技术以其成本低、产率高、可靠，对光罩与基座材料选择性好等优点，在薄膜晶体管液晶显示器(Thin-Film TransistorLiquid Crystal Display，TFT-LCD)的前段半导体制程对玻璃基板的蚀刻过程中得到广泛应用。然而，湿蚀刻设备因为其段点众多，玻璃基板传送流程复杂，一般在高压下伴随第一道清洗进行湿传送玻璃基板过程中，会产生激烈震动，致使产品追片及破碎等异常现象发生，造成生产率降低。请参阅...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。