技术编号：3256911
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种化学汽相沉积装置。背景技术 一般来说，化学汽相沉积(CVD)是将形成在面板上，构成薄膜材料元素的一种或一种以上化合物及混合气体提供给面板并且利用其化学反应形成薄膜的方法。通常提供两种以上气体进行混合化学反应，广泛地应用在诸如薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)这样的半导体元件制造工序中的多种薄膜的制造上。在这种化学汽相沉积装置中特别是扩散器(Diffuser)，具有将气体均匀扩散在面板上的扩散作用，同时还起到等离子体电极作用。图4是传统扩散...
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