技术编号：3267000
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜生产设备，尤其是涉及多弧离子镀膜机的引弧针。背景技术随后出现有物理气相沉积(PVD)技术，主要是在真空环境下进行表面处理，物理气相沉积本身分为三种真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空离子镀膜是通过离子镀膜机上的引弧针触碰靶材产生放电来实现，而现有技术中，引弧针触碰靶材的动作主要是由人工驱动，该结构存在触靶和脱离不稳定，触靶时间受人为因素影响很大，从而导致引弧针与靶材烧结...
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