技术编号：32785381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及薄膜设备技术领域，具体为一种光蚀刻用的光蚀刻打标装置。背景技术.蚀刻是一种加工技术，通过液体或气态化学品腐蚀材料表面，形成所需的形状。长期以来，它一直用于生产铜板版画和印刷板。近年来，利用精密成像技术进行光蚀刻，生产布线宽度在几十um以下的精细电路、ic、印刷电路板和各种精密电子设备。.目前光蚀刻的基本制造工艺为：创建光掩模、在基板上形成薄膜、光刻胶涂层、曝光和开发、蚀刻、电阻去除和完成。由于光蚀刻进行加工的材质多为软质的薄膜，在蚀刻完成进行打标时如果不能够对其进行有效的固定，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。