技术编号：32834284
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及纳米压印技术领域，具体为一种新型纳米压印设备。背景技术.纳米压印技术近年来备受光学器件的欢迎，其中微透镜阵列结构尤为火热，传统用于制作微透镜阵列的纳米压印设备是通过上下两个基板缓慢靠近将胶体挤压扩散来填充结构，然而上下两个基板的平行度很难把控，如果两个基板之间存在一定角度就会造成胶层厚度差值较大扩散不均匀，为此，我们提出一种新型纳米压印设备。实用新型内容.本实用新型的目的在于提供多一种新型纳米压印设备，以解决上述背景技术中提出的问题。.为实现上述目的，本实用新型提供如下技...
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