技术编号:32894263
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及硅片处理技术领域,具体涉及一种增强硅片清洗效果的方法。背景技术.为提高硅片表面的洁净度,在硅片加工过程中会设计多道清洗,通常的清洗流程依次是上料槽、处理槽、下料槽、甩干。上料槽通常是一个纯水槽,用来预清洗硅片,该槽一般配有鼓泡和溢流功能,清洗效果受鼓泡和纯水溢流流量的影响,清洗效果有限。原上料槽示意图见图。发明内容.本发明是为解决上述技术问题而进行的,通过改良清洗方法,兼顾了颗粒问题又不会破坏边缘氧化层,提供了一种增强硅片清洗效果的方法。.为了实现上述目的,本发明所采用的技...
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