技术编号:32929362
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质。背景技术.作为在半导体器件的制造工序中使用的基板处理装置,例如存在具备多个对基板进行处理的处理室、且在各处理室中排气系统共用化的装置。具体而言,存在构成为多个处理室分别连接有排气管、而且在其下游侧各排气管合流的装置(例如参照专利文献)。通过在各处理室中对基板进行相同的处理,能够提高生产率。.现有技术文献.专利文献.专利文献:日本特开-号公报发明内容.虽然处理室连接有排气管,但若这些排气管的排气性能低于所期...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。