技术编号：3293092
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种应用于晶圆化学机械平坦化（CMP）过程中的抛光垫修整装置，主要由机架、伺服电机、减速器、气动气囊、钢丝软轴、摆动臂、杠杆支撑轴、支撑底板、底板支撑轴、十字球头结构等部件组成；本装置采用伺服电机和减速器实现修整器摆动臂在抛光台上的摆动以及钻石轮的转动；通过杠杆机构分别对两个气动气囊充气以带动摆动臂抬升、下降及对抛光台施加修整力；采用钢丝软轴传动方式将旋转电机远离抛光区域放置，以避免因长期暴露在抛光液环境中对旋转电机造成一定的腐蚀；在摆动臂修整...
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