技术编号:3296654
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种真空蒸镀源,包括内部盛放有蒸镀材料的坩埚,所述坩埚包括具有第一开口的坩埚主体和具有第二开口的坩埚上部,所述第二开口的直径小于第一开口;对所述蒸镀材料的表面通过热辐射的方式进行加热的上方加热器,所述上方加热器设置在所述坩埚上部的外侧并避开所述第二开口位置;用于反射所述上方加热器所产生的辐射热能的反射物,所述反射物设置在所述上方加热器的外侧并避开所述第二开口位置。本发明还提供使用该真空蒸镀源的真空蒸镀方法。本发明的真空蒸镀源和蒸镀方法可以提高真空...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。