技术编号：33062770
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及晶体烘干的技术领域，特别是一种硫酸铜晶体烘干装置。背景技术.蚀刻液一般用于电路板等的蚀刻工作，蚀刻工作完成后蚀刻液会掺杂有铜等杂质，为了避免污染环境和得到有效的回收利用，一般的做法是将含铜蚀刻液进行中和，调整ph值，合成碱铜，然后对溶液进行固液分离、碱转、压滤洗涤、转移酸化、冷却结晶、离心洗涤，最终得到硫酸铜晶体。硫酸铜晶体表面经过离心洗涤后，表面还具有较高水分，需要进行干燥处理，现有的常用的方式为自然晾干或使用吸水纸，不仅干燥时间过长，工作效率低，且在干燥的过程中容易掺杂其...
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