技术编号:33111340
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及材料合成技术领域,尤其涉及适用于多种基底材料表面原位生长层状双金属氢氧化物层的普适性制备方法。背景技术.层状双金属氢氧化物(ldh)是一种结构类似于水镁石的物质,ldh的化学成分具有以下通式:[m-xm(oh)]x(an-)x/n·mho,其中m和m分别是位于主层板上的二价和三价金属阳离子,而x是m/(mm)的摩尔比,m是层间水分子的数量。随着阴离子电荷的增加和阴离子粒径的减小,ldh对阴离子的吸附性能增加,以下是ldh对阴离子的吸收强度顺序...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。