技术编号:33130957
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及硅片抛光技术领域,特别涉及一种用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置及抛光方法。背景技术.现有的单晶碳化硅双面抛光装置主要用于批量化生产单晶碳化硅衬底,抛光时上面的磨盘和下面的磨盘一起对单晶碳化硅衬底的两面进行打磨,该打磨方式仅能打磨两面为平面的单晶碳化硅衬底,对于两面都是曲面的单晶碳化硅则无法加工。发明内容.本发明的主要目的是提供一种用于抛光双面曲面单晶碳化硅的抛光装置,旨在解决现有的单晶碳化硅双面抛光装置无法打磨双面曲面单晶碳化硅的问题。.为实现上述目的,本发明提出的用于抛...
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