技术编号：3313482
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。，属于非线性光学晶体超精密加工。其特征是样品为铌酸锂晶片，采用固结磨料研磨、保持环硬抛光垫抛光、保持环软抛光垫化学机械抛光相结合的加工方法，硬抛光垫为合成革或聚氨酯抛光垫，软抛光垫为无纺布或绒毛抛光垫。化学机械抛光液的pH值为10.2-10.6，含有氧化铈、氧化硅、氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化钡、高锰酸钾、双氧水、柠檬酸、醋酸、草酸中的四种。固结磨料研磨时间为15-25min，硬抛光垫抛光时间为50-70min，化学机械抛光时间为3-6min。化学机械抛光的...
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