技术编号：3314987
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开提供一种。所述拼接式旋转靶包括内管和与其同轴心的靶材坯料以及设置在所述内管与所述靶材坯料之间的接合层，其特征在于，所述靶材坯料由至少两个靶材坯料段构成，且所述两个靶材坯料段之间的接缝处存在拼接面。通过改变拼接部位的形状，将拼缝在时间上累积的影响分散到更大的面积区域，减小了拼接处的膜质差异，从而减小了器件不良发生的可能性，提高了产品合格率。专利说明[0001]本公开涉及一种镀膜技术，尤其涉及一种。背景技术[0002]磁控溅射(Sputter)是一种优良...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。