技术编号：3316349
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种氢钝化氧化锌基薄膜晶体管是以氢等离子体钝化处理的掺杂钛或镁的氧化锌基半导体材料为沟道层。其制法为以生长有二氧化硅的重掺杂P型硅片为基底，对Ti或Mg与氧化锌的复合靶材进行射频磁控溅射，同时通过第一次掩膜沉积在基底上形成小块的掺杂Ti或Mg的氧化锌薄膜层；原位氢等离子体处理；在原位氢等离子体处理的氧化锌基薄膜层上采用直流溅射，第二次掩膜沉积制备Al电极，即得氢钝化氧化锌基薄膜晶体管。其优点是本发明提供的氢钝化氧化锌基薄膜晶体管具有电子迁移率较高、电学稳定...
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