技术编号:33180808
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。基板处理设备.相关申请的交叉引用.本申请要求于年月日提交韩国知识产权局的、申请号为--的韩国专利申请的优先权和权益,其全部内容通过引用结合在本申请中。技术领域.本发明关于一种基板处理设备。背景技术.为了制造半导体装置,经由基板上的各种工艺,诸如光学微影术工艺、蚀刻工艺、灰化工艺、离子植入工艺、及薄膜沉积工艺,在诸如晶圆的基板上形成所需图案。各个工艺使用各种处理流体及处理气体,且工艺期间会产生颗粒及工艺副产品。为了自基板移除这些颗粒及工艺副产品,在各...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。