技术编号:33240493
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本公开涉及真空镀膜技术领域,特别涉及一种蒸发装置及真空蒸镀系统。背景技术.真空蒸镀法是目前应用较为广泛的一种镀膜方法,是真空内的电子束轰击材料从而实现蒸发镀膜。常见蒸发源包括单个坩埚和用于偏转电子束的磁偏转装置,电子束发射装置通过电极连接高压电后发射电子束,再通过磁偏转装置将电子束偏转并聚焦至坩埚内,对材料进行轰击。.传统的电子束发射装置的正负电极普遍采用螺栓固定,从而使正负电极分离开一定的空隙防止短路。但是电子束发射装置在发射电子束时温度极高,螺栓易产生形变,从而造成正负电极从原本的安...
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