技术编号：33258593
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及一种静电吸盘，尤其涉及一种带有温控的静电吸盘。背景技术.静电吸盘所使用的静电吸附技术是一种替代传统机械夹持、真空吸附方式的优势技术，在半导体、面板显示、光学等领域中有着广泛应用。.目前在半导体领域中，需要对晶圆进行蚀刻，而静电吸盘是用于晶圆固定和温度控制的重要部件，因为晶圆温度是影响刻蚀速率和均匀性的重要因素，所以刻蚀中的化学反应对温度非常敏感，微小的温度差可能造成极大的刻蚀偏差，目前对静电吸盘的温控方式大多直接采用加热器来实现。.但是静电吸盘这样的温控方式，存在如下问题...
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