技术编号:33320270
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及等离子处理设备技术领域,特别涉及一种风冷系统及等离子体处理设备。背景技术.对于电感耦合等离子体刻蚀设备(icp),如图所示,所述icp设备包括:反应腔,位于所述反应腔上的腔盖,罩壳,其罩扣在所述腔盖上,形成一容纳空间,所述容纳空间内设有陶瓷窗、加热器(具体可以为在陶瓷窗表面粘贴的加热片)和线圈,所述陶瓷窗设置在所述腔盖上,所述加热器设置在所述陶瓷窗上;所述线圈设置在所述加热器上方,环绕所述加热器的周向设置,若干个风扇...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。