技术编号：33389527
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及光刻机技术领域，具体涉及一种升降辅助工装、光刻机以及光刻机的维护方法。背景技术.光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。.现有的光刻机装备包括主体和升降组件，所述主体具有加工舱，所述升降组件包括沿上下向活动安装于所述加工舱内的掩膜板承载台，所述掩膜板承载台用于承载掩膜板，光刻工作时，存在掩膜板承载台或掩膜板有杂质，或者所述掩膜板位置错位等情况，当出...
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