技术编号：33407760
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型属于真空炉炉架技术领域，更具体地说，涉及一种便于移动的立式真空炉炉架结构。背景技术.立式真空炉是真空炉的一种,是在真空环境中加热的一种设备，炉内加热系统可使用硅碳棒,硅钼棒等发热元件，一般主要用在陶瓷烧结、金属耐火材料冶炼、退火、大学实验室检测等高温处理领域，炉膛真空度可达×(-～-)h。.现有的立式真空炉炉架焊接而成，其支撑架的底端没有过多的衔接结构，进而支撑架单一的借助支撑柱和支撑柱之间的横杆对真空炉进行支撑，这种简单的支撑架在支撑炉体时承接能力较差，且在...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。