技术编号:33427055
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体光电器件领域,尤其涉及一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管。背景技术.目前,gan基发光二极管已经大量应用于固态照明领域以及显示领域,吸引越来越多的人关注。外延片是发光二极管的主要构成部分,外延片生长中欧姆接触层对发光二极管的发光效率、工作电压和表面平整度有最直接的影响。欧姆接触层采用mg作为p型掺杂,其激活能高,激活效率不到%,低的空穴浓度使其很难形成欧姆接触。.现阶段常用的方法是用高mg掺杂的ingan结构作为欧姆接触层,但是高的mg掺杂会带来表面平整度的下...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。