技术编号：3351888
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。双区离子束碳沉积背景技术当沉积用于耐磨防护的类金刚石碳层时，沉积两层或更多层的碳一一各层具有不同的厚度；较厚的层位于激光纹理区而较薄的层位于数据区_一是有益的。较厚的层提供耐磨防护，而较薄的层给予磁头更接近于 介质飞行因此提供更好的磁性能的优势。当通过离子束沉积法来沉积碳时，由于空间原因或实际成本原因，因 为处理室的数量有限，所以利用两个或更多离子源通常是不可能的。发明内容本发明涉及一种用于离子束沉积的离子源，其包括多个阳极，其中离 子源沉积源材料的多个区...
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