技术编号：33544738
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及掩膜版技术领域，具体而言，涉及一种掩膜版承载盒。背景技术.如图所示，为现有技术掩膜版，掩膜版是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量，而掩膜版并非一次性产品，因此，在不使用时需要通过专用承载盒进行存放，而承载盒往往在长时间使用后，承载盒之间的缝隙会过大，进而灰尘会进入承载盒的内部，掉落至掩膜版上；.因此，设计一种密封效果好的掩膜版承载盒是必要的。实用新型内容.本实用新型的目的是提供一种掩膜版...
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