技术编号：3362076
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种薄膜制备方法，具体涉及。背景技术具有周期形貌结构的薄膜在光学和电子器件中具有广泛的应用价值，尤其随着大规模集成电路和半导体工艺的发展，对具有微纳米周期结构的薄膜器件的制备提出了越来越高的要求。自然界广泛存在的褶皱现象就是一种常见的正弦形周期结构。受其启发，科学家们尝试利用一些多膜层结构在应力作用下的褶皱行为，自发的形成具有周期结构的薄膜，然而这种随机分布的褶皱结构尽管具有一定的周期，但其取向随机分布，欠缺实用价值。为了能有效地控制这些褶皱结构...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。