技术编号：33732599
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种ito平面靶及其烧结方法和烧结装置技术领域.本发明属于ito靶材领域，具体涉及一种ito平面靶及其烧结方法和烧结装置。背景技术.ito(氧化铟锡)靶材作为磁控溅射镀膜的主要原材料之一，由于其溅射后的薄膜具有优异的导电率、可见光透过率以及不同波段的选择性吸收的特性，被广泛应用在lcd、oled、太阳能异质结电池等领域。随着ito靶材的应用领域不断拓展，其在全球的需求量也在不断的增长。.ito靶材的烧结方法包括常压烧结、热压烧结、微波烧结等，其中常压烧结具有产能高、设备要求低等优势成为了当...
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