技术编号：33733727
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及硅片抛光技术领域，特别涉及一种清洁装置、设备及方法。背景技术.抛头对晶圆完成抛光后，抛头边缘以及抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂会存在沾污或颗粒等杂质，为了保证抛光的过程中不对晶圆带入新的杂质，需要对抛头进行清洁。现有的卡盘清洁器，通过支撑基质的旋转带动毛刷对抛头进行刷扫，并辅助具有一定水速的水流作用于毛刷和抛头之间，从而实现对抛头的清洁。但是抛头上沾污或颗粒的尺寸不同，且抛头表面粘结的环氧树脂等粘结剂导致粘结剂与抛头表面存在一定的高度差，因此，通过现有的卡盘清洁器无法对抛头进行彻...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。