技术编号：33770096
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明提出一种对溅射工艺制备的金属薄层无需高温处理，就能提高金属薄膜表面平整度和金属层的单晶质量的方法，具体涉及低温原位生长石墨烯时制备金属催化层的工艺，属于半导体光电集成领域。背景技术.石墨烯作为一种二维材料，因其优异的导电性、导热性、高载流子迁移率、强的机械性能以及高透光率等性能，得到许多学者的关注和研究。采用低温原位生长技术，将石墨烯直接制备在硅基集成电路上实现光电集成，将极大的拓宽石墨烯材料在光电子技术领域中的应用。.目前生长石墨烯的方法中，最具应用前景并被广泛使用的是化学气相沉...
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