技术编号:33803358
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及镀膜机技术领域,具体是一种箱式真空镀膜机冷却装置。背景技术.真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料),属于物理气相沉积工艺,真空镀膜技术广泛应用到电子、宇航、包装、光伏等技术领域,当利用真空腔体在基片上对某种材料进行真空镀膜时,往往由于沉积反应或工艺要求,需要对基片进行高温加热,加热过程导致真空腔体内部温度过高,长期受热则会使真空腔体内部的机械结构发生形变,从而使真空腔体的功能失效,因此使用时需要冷却装置对镀膜机进行冷却处...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。