技术编号：3381534
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空镀膜机的磁控溅射靶，特别是一种真空溅射旋转靶的装置。背景技术磁控溅射靶是真空镀膜机的重要组成部分，它牵涉到镀膜机的性能和镀膜质量， 生产成本等一系列问题。针对镀膜机的改进，也大多集中于对溅射靶的研究开发上。现有的溅射靶，基本上是一种平面磁控溅射靶，申请号20072014143. 4号名称为“可延长靶材寿命的平面磁控溅射靶”的实用新型专利，公开的是一种包括靶材、靶背板、靶阴极框架、阴极档板，磁铁和导磁极靴调整垫，可移动的磁铁和导磁调整垫...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。