技术编号:3395226
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于一种用物理气相沉积方法镀制装饰膜层的设备,特别涉及一种多弧—磁控溅射真空离子镀金设备。传统的黄金镀层是采用电化学方法实现的。用这种方法镀制的黄金镀层虽然色调丰富,装饰性强,但镀层与基片表面的结合力较差,镀层的硬度也较差,因而不耐磨,容易脱落;另外,在镀制时必须采用氰金化钾等有毒剂品,对环境有污染,已不能满足人们不断增长的需要和社会发展的要求。在真空条件下沉积黄金镀层是获得黄金装饰层的另一种方法。根据沉积方法、工艺的不同,镀制黄金装饰层的设备可...
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