技术编号：33957121
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于供应液体的单元、用所述单元处理基板的设备和方法背景技术.本文所述的发明构思的实施例涉及一种液体供应单元，以及具有所述液体供应单元的基板处理设备和基板处理方法，更具体地说，涉及一种用于向基板供应液体的基板处理设备和基板处理方法以及在其中使用的一种液体供应单元。.残留在基板表面上的污染物，诸如颗粒、有机污染物或金属污染物，对半导体元件的特性和生产产量有很大影响。因此，去除附着在基板表面的各种污染物的清洁工艺在半导体制造工艺中具有重要意义。在制造半导体的每个单元工艺之前和之后进行清洁工艺。所述...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。