技术编号：33958421
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种对准结构及对准方法。背景技术.在集成电路制造的流程中，有专门的设备通过测量晶圆上的当前图形(光刻胶图形)与参考图形(衬底内图形)之间的位置来确定套刻之间的误差。套刻误差不仅定性的描述了当前的图形相对于参考图形的偏移方向，而且定量的表示出偏移的距离。套刻误差作为判断光刻工艺是否优良的一种重要标准，若套刻误差为零，则证明其当前层与参考层的图形正对准，能最大程度地保证上下层之间的电路的可靠连接，提高集成电路的工艺程度。.现有的对准结构和对准方法都是基于...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。