技术编号：34010793
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及一种半导体处理设备及其托盘旋转驱动机构。背景技术.目前的薄膜沉积设备中，反应腔内设置可承载一片或多片晶圆的晶圆托盘，晶圆托盘的底部与托盘旋转机构连接，反应腔的底部设置驱动器，托盘旋转机构在驱动器的驱动下带动晶圆托盘旋转，反应腔内通入反应气体，对晶圆进行沉积操作，在晶圆托盘的下方设置有加热装置，用于在半导体制程中加热晶圆托盘，以控制晶圆的制程温度。托盘旋转机构中采用拉杆实现对晶圆托盘的固定和拉紧，拉杆只能从反应腔底部进行拆卸，不便于安装维护，且容易破坏密封性能，造成腔体泄露。另...
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