技术编号:34073697
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。;a.k.kota,g.kwon,w.choi,j.m.mabry和a.tuteja,nature commun.,,;l.hu,s.gao,x.ding,d.wang,j.jiang,j.jin和l.jiang,acs nano ,,-;c.-h.xue,s.-t.jia,j.zhang和j.-z.ma,sci technol adv mater.,,)。.已经使用多种方法来制备超疏水表面,这包括光刻、等离子体技术、...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。