技术编号：3412236
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及真空镀膜，特别涉及一种用于立式多靶真空溅射(或离子)镀 膜机中的具有多种运动方式的行星式工件架。背景技术在现代科学技术与工业生产中，真空镀膜技术处于非常重要的地位。特别是真空 溅射镀膜和真空离子镀膜，是应用极其广泛的物理气相沉积镀膜方法。在实验室中开展研究工作使用的小型真空镀膜机以及用于小批量多品种镀膜生 产的中小型镀膜机，根据不同研究和生产的需求，常常面临随时改变被镀工件品种、数量和 镀膜工艺的问题，因此现有类型的真空镀膜机通常设有多个不同靶材...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。