技术编号：3420520
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及表面沉积薄膜技术，特别涉及用于表面沉积薄膜的化学气相沉积系统。背景技术化学气相沉积(Chemical Vapor D印osition，简称CVD)是反应物质在气态条件 下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基底表面，进而制得固体材料的工艺技 术。详细请参阅Pulpytel， J.等人于2005年4月发表的Dendritic Platinum Aggregates Produced inthe Plasma Assisted Chemical...
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