技术编号:34215576
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于聚合物先进材料加工制备技术领域,尤其涉及熔体微分静电射流微纳层叠装置及微纳叠层材料制备方法。背景技术.随着聚合物加工技术的发展,在国防和航天航空等尖端领域,对聚合物材料成型加工装备和技术提出了更高的要求。微纳叠层材料在力学性能和阻隔性能等诸多方面具有优势,具有广泛的应用前景。微层共挤技术最初由美国陶氏化学公司提出,该技术是使聚合物熔体流经层倍增单元后发生层倍增过程最终形成多层结构的聚合物膜,通过调节微层厚度、微层排列和微层的折射率可使多层结构复合膜产生多彩效果,对制备高性能、多功...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。