技术编号：34217846
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种除尘管，一种除尘装置，一种准分子激光器以及另外一种除尘管。背景技术.在高端光刻领域，准分子激光器因其高重频、窄线宽和大能量的特点，是目前半导体光刻领域应用的主要设备。.在准分子激光器放电腔中，光学输出结构会遇到诸多问题。例如，由于存在高重复频率的高压放电及高温环境，腔内存在大量放电粉尘，这些粉尘到达光学输出窗口时会污染镜片，造成热应力集中、光学性能下降等不良影响。对此，现有技术一般采用静电除尘装置净化准分子激光器腔内的气体，然后向镜片内侧输送洁净...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。