技术编号：3425268
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空镀膜方法，具体而言，是指一种运用正三角柱靶座阵列配合不同靶材、不同基材公转转速的镀膜方法。背影技术由于现代工业技术的制造水准日渐提高，以往视为高科技的真空镀膜技术已在近代工业中占有极重要的地位，无论从航空工业到生活必需品中都可以见到此项技术的应用，因此，真空镀膜技术对现代人生活的介入已到了无孔不入的地步。现今工业界已经广泛应用真空镀技术于增进工作产品的表面品质及寿命，目前商业化电弧离子镀膜法所得镀膜材质以氮化钛(TiN)、氮化铬(CrN)...
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