技术编号:34266539
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及一种稀有气体回收系统。背景技术.在已知蚀刻工艺中使用氩气和氙气。然而,氩气是相对常见的空气气体,氙气相对稀有。.已知用于从干式蚀刻工艺回收诸如氙气的稀有气体的系统。此类系统从单个蚀刻室回收气体并使所述气体返回到闭环系统中的相同气体室。发明内容.利用氪气的蚀刻工艺正在开发中。此类工艺的可行性可能取决于回收氪气的能力。.发明人已经认识到,可以使用真空和减排系统来使用共用泵以及任选地减排系统同时泵送来自多个气体室的气体。.发明人已经认识到,可以使用真空(以及任选地减排)系统来从...
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