技术编号：34300304
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及光刻机技术领域，具体涉及一种光束监测装置。背景技术.在光刻机照明系统中，arfi准分子激光器输出光束存在位置和指向的漂移，激光器输出光束经过长距离传输后，其位置和指向也会受到地基振动、环境气流等的影响而产生偏移，该影响使得入射于照明系统的光束的位置与指向也会随时间而发生漂移，因此需要对arfi准分子激光器输出的光束在传输过程中的位置和指向进行监测，以保证曝光过程中在硅片面得到光强分布均匀且稳定的照明光场。.现有的光束监测装置能够实现光束的位置和指向的监测，但是，其结构呈分离式设...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。