技术编号：34331391
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及石英坩埚生产技术领域，尤其涉及一种石英坩埚高压喷淋装置。背景技术.石英坩埚，具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点，应用越来越广泛，石英坩埚可在度以下使用，分透明和不透明两种，用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料，当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚，在坩埚的生产加工的工艺中，高压喷淋是对其清洁的一道重要工序。.现有技术中，如中国专利号：cnu，公...
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