技术编号：34415924
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及膜厚测量技术领域，尤其是涉及一种反射式膜厚自动测量仪器。背景技术.晶圆对于半导体器件至关重要，膜厚是影响晶圆物理性质的重要参数之一。通常对膜厚的测量有椭圆偏振法、探针法、光学法等，膜厚探测系统又称薄膜检测系统，用于测量薄膜的厚度。椭圆偏振技术（ellipsometry）是一种多功能和强大的光学技术，可用于取得薄膜的介电性质（复数折射率或介电常数）。椭圆偏振是一个很敏感的薄膜性质测量技术，且具有非破坏性和非接触之优点。.其中，分析样品反射之偏振光的改变，椭圆偏振技术可得到比探...
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