技术编号：34447468
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明主要涉及半导体设备技术领域，具体涉及一种离子注入机的离子注入方法。背景技术.离子注入机是半导体工艺中的关键设备之一。离子注入机束流与剂量测控的主要目的是精确采集、控制离子束流和剂量，并实时控制离子束扫描运动和靶台运动将离子按设定剂量均匀地、精确地注入到晶片表面，属于离子注入机的关键技术之一。全电扫离子注入机是离子注入机中的一种，由于扫描速度快，能满足一些对温度敏感的特殊材料的注入工艺要求，同时设备结构相对简单，生产成本相对较低，因此拥有一定的市场需求。.目前的离子注入机在离子注入时...
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