技术编号：34476378
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请实施例涉及产品加工制造过程质量控制技术领域，涉及但不限于一种生产设备的监测方法、监测设备、装置、存储介质。背景技术.产品例如半导体晶圆的制造工艺极其复杂，主要包括曝光、蚀刻、离子注入、薄膜沉积和化学机械研磨等工序，在实际生产制造中多达六百到上千个步骤，需要监控的量测参数也有成百上千个。.传统方法需由有专业统计背景的工程师，人工比对特定参数下机台的表现，判断差异，从而确定产线制程水平的稳定性。如此一来，不仅耗时耗力，而且由于产线制程水平的稳定性是保证产品良率的基础，传统方法是已经出现...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。