技术编号：34607324
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请属于晶体生长领域，尤其涉及一种基于双加热多坩埚下降法的氟化物晶体生长装置及方法。背景技术.氟化物晶体（如氟化钙、氟化钡、氟化镁等）具有非常优异的光学透过性能，透过波段范围宽，覆盖了紫外、可见光和红外波段，在.-μm波段范围内都有极高的内透过率。氟化物晶体热力学性能良好，物化性能稳定，不潮解、易加工，抗辐射损伤能力强，是一类非常优异的光学晶体材料，广泛应用在高压电力设备、医疗器械、高端相机、显微镜、望远镜、光谱分光系统、准分子激光器、光刻机等光学仪器领域。.目前，国内外报道...
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