技术编号：3461026
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种电子级红磷的生产工艺，特别是一种对工业黄磷进行除As、Fe、S、Si、Mn、Cu、Zn、Ca、Mg、Au等杂质，将工业黄磷中的As、Fe、S、Si、Mn、Cu、Zn、Ca、Mg、Au等的含量从20～500ppm降到0.01-0.1PPm并进一步生产成6N或7N级红磷的生产工艺。背景技术电子级红磷是半导体的掺杂、扩散剂，是化合物半导体GAP、INP的主要原料，电子级红磷的纯度要求达到99.9999％，尤其As的含量达到0.2ppm以下，甚至0.0...
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